本品是由多種溶解能力極強的原輔材料精心配制而成的去膠液。具有優良的去膠能力，廣泛用于半導體行業去除各種光刻膠，不含氨氮和磷,環保安全，易生物降解。

a) 高效性：快速溶解光刻膠并使其脫落，效果好，無毛邊和犬齒，操作簡單方便。

b) 安全性：對半導體基材和鍍膜金屬無腐蝕。

c) 環保性：不含氨氮和磷禁用物質，易降解，屬于環保型產品。 

使用方法

根據實際工作條件，可采用浸泡清洗、超聲波清洗等使用方法，一般建議采用原液加溫至50℃～70℃對半導體光刻膠去膠，清洗時間可根據實際情況控制在5min～30min左右；去膠完成后用去離子水后超純水清洗，清洗的次數和時間由現場工藝要求來決定。

注意事項

a) 請勿在明火附近使用,勿長時間接觸皮膚和大量吸入揮發氣體，如不慎濺入眼中，請及時用水沖洗。

b) 超聲波清洗建議采用專用溶劑類清洗劑的超聲波設備。